半導体産業

現在ではウェハー洗浄は、半導体産業で最も繁雑な製造ステップの一つです。不十分な洗浄は致命的な結果を招く恐れがあり、小さなパーティクルまたは化学の残留物でもウェハーにダメージを与え、損失が生じます。下記はウェハーを頻繁に洗浄しなければならない2つの理由です。

第一に、ウェハーは、すべてのプロセスのステップで異なる化学物質（例えば、エッチング液、湿潤剤、またはフォトレジスト）と接触します。これらはウェハーから完全に取り除かなければなりません。第二に、ウェハーは各プロセスステップで機械的に移動され、異なる処理、制御、測定機器に戻されます。これらの動きは、メカニカルによる摩擦はやむを得ず、パーティクルが生成する可能性があります。

作業者と制作本体からもパーティクルが発生します。酸とその他の化学製品からパーティクルが発生しないためには、使われる製品には高い要求が必要です。従って、emtechnikで使われる製品は、すべてISO14644-1クラス5のクリーンルーム（2018年からクリーンルーム7もあります）のような環境の中で生産します。例えば、ラッパー口のコネクターは最高の標準と純度、清潔度の中で生産します。